器件制造
Advanced Epi 提供用于原型设计、小批量生产或提取外延层电特性的器件制造服务。各种内部工艺使我们能够快速设计和制造器件结构。借助我们的无掩模激光刻录机，我们可以将您的数字掩模文件直接图案化到芯片或晶圆上，或者如果您已经有了定义的掩模设计，我们可以使用我们的掩模对准器对整个晶圆进行图案化。

器件制造技术
光刻 - 激光刻录机、UV 掩模对准器
金属沉积 - 电子束蒸发器、溅射
蚀刻 - 湿法蚀刻、RIE-ICP
氧化 - PE-CVD、TEOS、热
我们的大多数工艺都能够处理芯片、100 毫米和 150 毫米晶圆直径。

电气表征技术
内部表征技术使我们能够从您的设备中提取重要的电气数据作为完整的解决方案。
IV（77K 至 800K）
CV（77K 至 300K）
霍尔效应（15K 至 300K）

网址：https://advancedepi.com/