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中微半导体突破了5纳米刻蚀机,3纳米提上日程

时间:2020-11-04 11:11:30 浏览:1407

中国现在正全面发展,产能和技术进步都很大。然而,我们都知道,只有在发展的过程中,我们才能得到更多的投资和发展。

今年的发展对每个国家来说都是困难的。在这种情况下,最好的发展模式是互利共赢、共同进步。然而,即使在这种严峻的形势下,美国仍然对中国的芯片技术实施禁令。这一经验在中国掀起了一股国产芯片制造的浪潮,也更启发了国内民众。虽然我们在这方面没有一些突出的技术,甚至在核心技术上也没有这样的优势,但是美国出台的一些政策触动了我们,现在国家在芯片领域投入了很多。

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目前,国内芯片领域也有利好消息。这家公司是我们的微型半导体公司。虽然位于上海,只是一家发展中的公司,但整体发展潜力巨大。

公司发展很早,成立于2004年。在长期的发展过程中,他们也有很多技术上的改进,所以要成为国内芯片制造业的领头羊并非不可能。

16年来,他们克服了从65nm刻蚀机到5nm刻蚀机的一系列缺点,取得了很大的突破和进步。

光是这一进展,我们就更有信心。另外,国家和许多民营企业对中国芯片的发展有着更高的期望,因此他们在这一领域的投资也更多。到目前为止,5纳米刻蚀机在我国的应用过程中已处于领先地位。

但要想有更大的发展,就必须向更高的层次迈进。经过16年的全面发展,目前已经达到5nm,这意味着3nm的突破并非不可能。目前,微型电感已将3nm蚀刻机提上日程,期待后续发展。

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