中国现在正在加大对发展的投资。由于早期发展中的一些不足，我国的技术长期落后于其他国家。在目前的发展过程中，我们也受到了影响。
然而，为了缓解这种情况，技术领域的一些发展决不能落后。为了避免重蹈覆辙，我们需要投入更多的研究人员。在目前的发展中，事实上，让研究者头疼的是我们在芯片制造和开发方面的进展。这是一个严格考虑这一要求的领域，如果出现一些错误，可能很难取得好的进展。此外，美国今年的一些限制令我们更难控制芯片的制造。
因为没有其他国家的技术支持，自我控制意味着中国要想有更好的发展，就必须依靠国内生产。
但是，国内芯片制造最大的困难是我们不能制造光刻机，所以我们不能制造一些没有光刻的芯片吗？其实，突破并非不可能，但也意味着需要更多的时间。
中芯国际联席首席执行官梁孟松认为，中芯国际n 1工艺可能会达到这种效果，因为它完全不同于一些传统的芯片制造。
该芯片的功耗和逻辑面积分别比传统芯片降低了近7Nm，分别降低了57%和63%。n1工艺的稳定性可与7Nm媲美，中国企业迎来了新的突破。
虽然n1工艺的性能已经提高到了20%，但总体而言，中芯n1工艺可以实现7nm芯片，这让人更加自信和兴奋。
EUV光刻机可以用于芯片制造，也就是说，如果能够实现，即使没有光刻机也可以完成芯片的制造。
这样的发展完全可以摆脱西方对我国芯片的控制，而国产芯片的预期失败也让我们在这方面更有信心。至于未来的发展，我们拭目以待。
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