随着半导体技术的不断发展，芯片尺寸越来越小，精度也越来越高。目前已经量产的芯片已经达到5nm，2nm和3nm的技术也在迅速被攻克。要想让芯片更精细，离不开一个非常关键的设备，那就是光刻机。目前，世界上已经投入生产的最先进的光刻机大部分都在TSMC，这也是大部分芯片封装和生产订单都在TSMC的主要原因。
随着华为高端芯片制造受阻，高端光刻机成为中国非常迫切的需求。目前主流的高端光刻机主要有DUV光源和EUV光源。EUV产品比较先进，目前只有荷兰的ASML公司能制造，年产量也就几台，每台价格高达10亿人民币。现实是一个在国内还是很难找的。
相比DUV光刻机便宜很多，目前价格在6亿左右，也能达到目前最主流的7nm工艺。SMIC正在实施的N 1工艺基于其自己的DUV光刻机产品。两种高端光刻机的产品名称只有一个字母的区别，但是生产工艺有很大的区别。DUV光刻机生产工艺复杂，需要反复曝光才能满足7nm的制造要求，所以制造成本很高，生产效率很低，成品率很难保证。
更先进的EUV光刻机可以通过高能紫外线一次曝光实现，降低了生产成本，更容易保证产量。这样，EUV虽然采购成本高，但制造成本明显较低，在质量和效率上有绝对优势，未来通过技术升级可以更上一层楼，无疑是目前高端芯片制造的首选。
EIMKT工业电子市场网是一家在中国拥有多渠道IC外贸领域的专业电子元器件商城，提供国内外品牌和质量包管产品及配备。EIMKT产业电子市场网络供给半导体、集成电路、元器件、电源模块、射频微波、ARM、MCU、TE等产品，并提供免费的服务和技术支持，欢迎咨询。
详情了解EIMKT工业电子市场网请点击：http://www.eimkt.cn/
或联系我们的销售经理：0755-83038170 QQ：2792006604
