光刻机是集成电路最重要的加工工艺，它的效果类似于金工车间中车床的效果。光刻是制造芯片的最关键技艺，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的施行，都离不开光刻的技艺。
运用光刻机宣布的光经过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发作性质改动，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的效果。这便是光刻的效果，相似照相机照相。照相机拍照的相片是印在底片上，而光刻刻的不是相片，而是电路图和其他电子元件。
简单来说，光刻机便是放大的单反，光刻机便是将光罩上的设计好集成电路图形经过光线的曝光印到光感材料上，构成图形。
镜头是光刻机最中心的局部，选用的不是普通的镜头，可以抵达高2米直径1米，乃至更大。光刻机的整个曝光光学系统，由数十块锅底大的镜片串联组成，其光学零件精度控制在几个纳米以内，
光源是光刻机中心之一，光刻机的工艺才干首要取决于其光源的波长。
最早光刻机的光源是选用汞灯产生的紫外光源，从g-line不断开展到i-line，波长减少到365nm，理论对应的分辨率大约在200nm以上。随后，业界选用了准分子激光的深紫外光源。将波出息一步减少到ArF的193nm。不过原本接下来方案选用的157nm的F2准分子激光上遇到了一系列技艺障碍以后，ArF加浸入技艺成为了干流。
这之后，业界开端选用极紫外光源来进一步提供更短波长的光源。如今首要选用的办法是将准分子激光映照在锡等靶材上，激宣布13.5nm的光子，作为光刻机光源。
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