12月18日，美国商务部正式将中芯国际列入实体名单。美国制止中芯国际设备低于10 nm，设备以上10 nm必需逐一办理审批手续。

从这些角度来看，假如梁梦松指导的优秀工艺无法得到EUV光刻机，那么其加速过程必然会遇到毛病。此外，EUV光刻机只是其中一种环节设备，也是其他设备之一。

参加中芯国际后，蒋尚义开发了优秀的封装和小芯片，以进步芯片的功用。其次，这种技术在高端光刻技术中是不存在的。

当然，这一方案并不反对杰出的工艺，而是作为工艺的补充。但是，优秀的束流工艺计划不受设备的支持。

换言之，中芯国际必需谐和消费方案。在优秀的制造工艺和优秀的包装中，中芯国际是一种选择，能够是次要的，也能够是次要的，也能够同时停止。

依据逻辑推理，中芯国际对蒋的引见是个好举措。但出于好心，在沟通方面也存在问题。

但是，可能还有另一个环境。梁以为，假如这个过程在现阶段不被视为主要的偏向，它将不会发挥严重作用。换句话说，即便梁与蒋、赵等人有矛盾，他也可能会假造一些东西。

如何选择国内芯片的自给自足率和国产化？

中芯国际将从这两种计划当选择一种，分为第一级和第二级，或同时停止两种计划。这是重点。

从久远来看，必需有良好的工艺。从国产芯片的自给率和国产化水平来看，有必要向优秀的封装和小尺寸的方向开展。国产化与精密技术之间没有抵触，但我们没有EUV光刻机。

国内半导体设备和资料跟不上，这也是完成芯片国产化的一个选择。很难说梁能否会承受这个方案。此外，中芯国际能否会选择一级和二级计划也是一个问题。

目前，我们面临的问题不是能否有一个很好的工艺，而是能否有高端光刻机和其他设备和技术能够取代美国。

以上海微电子为例，90 nm光刻到28 nm光刻，耗时13年。依据这一逻辑，EUV光刻机的国产化需求10年时间。

2025年中国制造"提到，到2030年将消费极紫外光刻设备。

在过去的十年里，一个大问题是应该推行什么样的明白和有方案的国内芯片的施行。

据报道，今年12月，中芯国际、第二期大型基金和伊庄国度投资公司在北京树立了协作同伴关系。

听说这是中芯国际的"粉饰"消费线，但公司没有透露任何音讯。

假如是这样的话，对上海微电子等国内设备和资料消费线停止考证是个好主见。

值得留意的是，芯片的国产化不能无视优秀的制造工艺。但是，从企业的角度来看，在一段时间内应该有初级和中级程度。最重要的是，在当前的环境下，芯片制造商不只在思索芯片的制造过程，而且还担忧技术或设备的可用性。

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